A carregar...
Publicação
Porta substratos para um sistema de pulverização catódica. Aplicação na obtenção de TiO2.
| Nome: | Descrição: | Tamanho: | Formato: | |
|---|---|---|---|---|
| 15.16 MB | Adobe PDF |
Autores
Orientador(es)
Resumo(s)
Para a implementação da possibilidade de obtenção dos filmes de TiO2 por descarga de magnetrão, em diferentes fases cristalinas e para diferentes aplicações, foi necessário a construção de um porta substratos para um sistema de pulverização catódica, que permitisse um controlo de temperatura até os 750 ºC, e a polarização do mesmo. O presente trabalho teve como objectivos principais, o desenho e construção de um porta substratos, a concepção de um software que controle e monitorize os parâmetros relevantes do processo de crescimento do filme, além de controlar a temperatura do porta substratos e a tensão de polarização.
Esta tese pretende descrever como foram executadas as tarefas propostas, e ultrapassados os condicionalismos experimentais inerentes aos trabalhos deste género.
Pretende-se igualmente apresentar e explicar os softwares desenvolvidos, que representam grande parte do trabalho executado.
Esta tese encontra-se dividida em cinco capítulos.
No primeiro capítulo é feita uma introdução a Física de Plasmas e das descargas
luminescentes anómalas, necessária para o entendimento da pulverização catódica,
técnica utilizada para a obtenção dos filmes finos neste trabalho. Na Física dos Plasmas,
dá-se ênfase aos processos que determinam as características dos filmes e seu modo de
obtenção. Termina-se fazendo uma pequena abordagem aos filmes finos e filmes de
TiO2.
No segundo capítulo descreve-se o sistema SIDEBI (Sistema de deposição de
películas Binárias), sistema utilizado para fazer o trabalho experimental. Descrevem-se
os equipamentos que são determinantes para medir os parâmetros que se quer controlar
e monitorizar: como a pressão, a taxa de deposição e a espessura do filme. Neste
capítulo também abordam-se os softwares desenvolvidos para controlar e monitorizar: a
fonte de alimentação da descarga, a unidade de medida da taxa de deposição e os
medidores de pressão do sistema.No terceiro capítulo focam-se as características do porta substratos construído,
descrevendo e apresentando sua construção. Neste mesmo capítulo é apresentado o software desenvolvido para controlar e monitorizar a sua temperatura e também o
software concebido para controlar a fonte que irá polarizá-lo.
No quarto capítulo apresenta-se e explica-se o software final, onde estão
integradas todas as rotinas desenvolvidas para controlar e monitorizar cada um dos
parâmetros de forma individual.
Finaliza-se com a apresentação dos resultados experimentais, resultado do teste
de calibração do porta substratos e resultado da experiência de produção de filmes com estrutura cristalina.
No quinto capítulo são apresentadas conclusões.
Descrição
Dissertação apresentada na Faculdade de Ciências e Tecnologia da Universidade Nova de Lisboa para obtenção do Grau de Mestre em
Engenharia Física