Estatísticas para Etchability Dependence of InO x and ITO Thin Films by Plasma Enhanced Reactive Thermal Evaporation on Structural Properties and Deposition Conditions
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| Etchability Dependence of InO x and ITO Thin Films by Plasma Enhanced Reactive Thermal Evaporation on Structural Properties and Deposition Conditions | 26 |
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| outubro 2025 | 2 |
| novembro 2025 | 0 |
| dezembro 2025 | 3 |
| janeiro 2026 | 1 |
| fevereiro 2026 | 0 |
| março 2026 | 0 |
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| Etchability_dependence.pdf | 51 |
| Xavier Maria Jose TD 2014.pdf | 1 |
| Boys_reading.pdf | 1 |
| tese de liulu-paula costa.pdf | 1 |
Top de consultas por país
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| Brasil | 5 |
| China | 5 |
| Equador | 2 |
| Japão | 2 |
| Bélgica | 1 |
| Chéquia | 1 |
| Egito | 1 |
| Panamá | 1 |
| Ucrânia | 1 |
| Estados Unidos | 1 |
| Região desconhecida | 1 |