Utilize este identificador para referenciar este registo: http://hdl.handle.net/10362/5419
Título: Desenvolvimento de óxidos semicondutores tipo-p para aplicação em transístores de filme fino
Autor: Barros, Ana Raquel Xarouco de
Orientador: Fortunato, Elvira
Data de Defesa: 2009
Editora: Faculdade de Ciências e Tecnologia
Descrição: Dissertação apresentada na Faculdade de Ciências e Tecnologia da Universidade Nova de Lisboa para a obtenção do grau de Mestre em Engenharia Microelectrónica e Nanotecnologias
URI: http://hdl.handle.net/10362/5419
Aparece nas colecções:FCT: DCM - Dissertações de Mestrado

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