Desenvolvimento de óxidos semicondutores tipo-p para aplicação em transístores de filme fino

Utilize este identificador para referenciar este registo: http://hdl.handle.net/10362/5419

Título:	Desenvolvimento de óxidos semicondutores tipo-p para aplicação em transístores de filme fino
Autor:	Barros, Ana Raquel Xarouco de
Orientador:	Fortunato, Elvira
Data de Defesa:	2009
Editora:	Faculdade de Ciências e Tecnologia
Descrição:	Dissertação apresentada na Faculdade de Ciências e Tecnologia da Universidade Nova de Lisboa para a obtenção do grau de Mestre em Engenharia Microelectrónica e Nanotecnologias
URI:	http://hdl.handle.net/10362/5419
Aparece nas colecções:	FCT: DCM - Dissertações de Mestrado

Ficheiros deste registo:

Ficheiro	Descrição	Tamanho	Formato
Barros_2009.pdf		3,41 MB	Adobe PDF	Ver/Abrir