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Percorrer por Orientador Taboryski, Rafael

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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
Dez-2022Rapid Thermal Processing and its Effects on High Aspect Ratio Silicon FeaturesDiogo, Inês RodriguesmasterThesisopenAccess
Nov-2022SF6/O2 Plasma Etching: Optimizing the CORE process and going into 3D EngineeringFarinha, Maria RodriguesmasterThesisopenAccess
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