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Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/10362/7029

Title: Filmes finos de óxidos metálicos estudo e aplicações
Authors: Parreira, Pedro Miguel Raimundo
Advisor: Carvalho, Carlos
Issue Date: 2011
Publisher: Faculdade de Ciências e Tecnologia
Abstract: Nesta dissertação são apresentados alguns estudos sobre diferentes óxidos metálicos: Óxido de estanho (SnOx), óxido de índio (InOx), óxido de cobre (CuxO) e óxido de titânio (TiOx). Com o óxido de estanho e o óxido de índio pretendeu-se averiguar a influência de diferentes tipos de recozimentos (diferentes atmosferas e temperaturas) nas suas propriedades optoelectrónicas. Foram estudados também vários parâmetros experimentais na tentativa de obter filmes finos condutores (tipo-n) e transparentes com bons valores de condutividade eléctrica e transmitância óptica no visível. Para o óxido de cobre o objectivo foi a determinação de condições experimentais que dão origem a um semicondutor transparente (do tipo-p) para futura integração em circuitos CMOS transparentes depositados à temperatura ambiente. Finalmente, é apresentado um estudo acerca de óxido de titânio nanoestruturado para integração em células fotovoltaicas de terceira geração. Para os óxidos de estanho, índio e cobre foi utilizado o sistema de evaporação térmica reactiva assistida por plasma enquanto que para o óxido de titânio foi utilizado um sistema de pulverização catódica reactiva pulsada. Para todos os materiais aqui apresentados foram desenvolvidas condições experimentais que por estarem associadas a baixas temperaturas possibilitam a deposição de filmes finos de óxidos metálicos em substratos flexíveis poliméricos.
Description: Dissertação para obtenção do Grau de Mestre em Engenharia de Materiais
URI: http://hdl.handle.net/10362/7029
Appears in Collections:FCT: DCM - Dissertações de Mestrado

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