Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/10362/5419
Title: Desenvolvimento de óxidos semicondutores tipo-p para aplicação em transístores de filme fino
Authors: Barros, Ana Raquel Xarouco de
Orientador: Fortunato, Elvira
Issue Date: 2009
Publisher: Faculdade de Ciências e Tecnologia
Description: Dissertação apresentada na Faculdade de Ciências e Tecnologia da Universidade Nova de Lisboa para a obtenção do grau de Mestre em Engenharia Microelectrónica e Nanotecnologias
URI: http://hdl.handle.net/10362/5419
Appears in Collections:FCT: DCM - Dissertações de Mestrado

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